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稀有气体

名称 纯度 杂质含量 执行标准
Ar 99.999~99.9996% 5N级N2≤5,O2≤2, H2≤1, 总碳含量≤2,H2O≤4 GB/T 10624-1995
He ≥99% Ne(H2),O2(Ar), N2, CH4总含量≤1%,H2O露点℃-43 GB/T 4844.1.1995
99.99~99.995% 4N级Ne≤40,O2(Ar)≤5, N2≤25, Co≤1, CO2≤1,CH4≤1, H2O≤30 GB 4844.2.1995

99.999~ 99.9996%

5N级Ne≤4,H2≤1, O2(Ar)≤1, N2≤2, Co≤0.5, CO2≤0.5,CH4≤0.5, H2O≤3 GB/T 4844.3.1995
Ne 99.99% N2≤100, CO2≤1,CH4≤1  
99.999% N2≤3, He≤10, O2≤1, CO2≤0.5, CO≤1.0, H2O≤1.0, THC≤1.0 Q/SGYQ001-2001
Kr 99.95% Xe≤50, N2≤1.5 , O2+Ar≤5, H2≤2, CO2≤1, CO≤1, CH4≤1 , H2O≤3  
99.99% N2≤20, O2+Ar≤5, H2≤2, 总碳≤3,H2O≤3,Xe≤50, 总杂质含量≤100 GB/T 5829-1995

99.995%

N2≤10, O2+Ar≤5, H2≤1, 总碳≤2,H2O≤3,Xe≤30, 总杂质含量≤50 GB/T 5829-1995

99.999%

N2≤3, O2+Ar≤2, H2≤0.5, 总碳≤1,H2O≤2.6,Xe≤4, 总杂质含量≤10 GB/T 5829-1995
Xe 99.95% CO2≤5, Co≤5, CH4≤5, N2O≤5, H2O≤5  
99.99% N2≤20, O2+Ar≤5, H2≤2, 总碳≤3,H2O≤3,Kr≤50,N2O≤1, 总杂质含量≤100 GB/T 5828-1995

99.995%

N2≤10, O2+Ar≤4, H2≤1, 总碳≤2,H2O≤3,Kr≤30,N2O≤1, 总杂质含量≤50 GB/T 5828-1995

99.999%

N2≤1, O2+Ar≤2, H2≤0.5, 总碳≤1,H2O≤2.5,Kr≤4, N2O≤0.5, 总杂质含量≤10 GB/T 5828-1995
 

电子气体

品种名称 化学式 纯度(%) 充装容器(L) 充装量(Kg)
氨气 NH3 99.999 44、16、8 22.7、6.8、4.1
99.9997
砷烷 AsH3 99.999 50、25、10、5 22.7、11.3、4.5、2.3
99.9999
三氯化硼 BCl3 99.99 44、16 36.3、10
99.999
三氟化硼 BF3 99.99 44、16、8 27.2、9.1、4.5
99.995
氯气 Cl2 99.99 49、44、16、8 45.4、40.8、18.1、4.5
  99.999
二氯二氢硅 SiH2Cl2 99.0 44、16 40.9、10
99.9
三氟甲烷 CHF3 99.995 44、16 31.8、5.0
  99.999
氯化氢 HCl 99.995 49、44、16 31.7、27.2、9.1
  99.9995
氧化亚氮 N2O 99.97 44、16、8 27.2、9.0、4.5
99.9998
三氟化氮 NF3 99.7 44、17 20、7.7
99.995
氯硅烷 SiCl4 99.94 210MC、38 272、45.4
硅烷 SiH4 99.999 49、44 14、10
99.9995
磷烷 PH3 99.999 44、16、8、3 13.6、4.1、2.3、0.7
99.9998
99.9999
六氟化硫 SF6 99.99% 44、47 52
99.999%
四氟化碳 CF4 99.999% 44 31.8
主营业务:半导体外延硅片、氯化氢、氨气、氮气、氧气、氢气、氩气、四氟化碳、笑气、三氟化氮、硅烷、超纯气体、液态气体、管路安装改造工程、配套备品备件、劳防用品。
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